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应用领域:
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主要技术指标:1.真空腔尺寸:Φ1100×12002.极限真空度:2×10-4Pa3.坩埚容积:2×1000ml3.电子枪功率:10kW 功能/应用范围:可用于氧化物等薄...
上海杨浦区
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主要技术指标:横向分辨率200-300nm,纵向500-700nm,工作深度约200um 功能/应用范围:细胞荧光成像与微区光谱研究双光子激发荧光成像 主要测试...
上海杨浦区
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主要技术指标:8寸 功能/应用范围:抛光硅片 主要测试和研究领域:电子/信息技术 收费标准:其它收费方式 ...
上海杨浦区
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主要技术指标:1、Loadlock预抽真空;2、本底真空:2*10e-8Torr;3、基板加热,0-400度;4、基板旋转速度可调,1-20rpm;5、三路气体,可反应溅射;6、五个2英寸溅射枪,和一个3...
上海杨浦区
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负责人:苗慧 联系电话:39943046 主要规格及技术指标 质谱部分:单四极杆质谱(SingleQuad) 离子源:ESI和APCI复合源 ...
广东广州市
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主要技术指标:电流精度10fA电容高频1MHz 功能/应用范围:用于半导体器件的电学(IV、CV)特性测试 主要测试和研究领域:电子/信息技术 ...
上海杨浦区
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主要技术指标:AFM噪声水平0.3,可对云母、石墨原子像成像控制器反馈相应时间:2s,采样率50MHZ扫描范围:0.4μm×0.4μm×0.4μm或10μm×10μm×2...
上海杨浦区
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主要技术指标:样品尺寸为4寸硅片溅射室极限真空优于1.210-6Pa,进样室(loadlock)真空优于6.710-4Pa淀积薄膜厚度均匀性优于3%衬底可加热,温度最高可达800oC 功能/应用范...
上海杨浦区
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主要技术指标:极限真空:成膜室1.210-6Pa(loadlock)准备室6.710-4Pa样品尺寸:4寸(1片/次)可通3路气体:Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通溅射、共溅射和反应溅射,可对样...
上海杨浦区
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主要技术指标:分辨率10X10纳米Multimode8型 功能/应用范围:纳米材料表面形貌、纳米薄膜粗糙度研究,纳米材料粒径测量、纳米复合材料相组成研究及复合材料界面研究...
上海杨浦区
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主要技术指标:纳米压痕试验纵向载荷力和位移可实现的最大载荷:10mN位移分辨率:0.0004nm可实现的最大位移:5μm2纳米划痕试验横向载荷力和位移可实现的最小横向力:<5μN...
上海杨浦区
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主要技术指标:数字通道:16路P1000数字通道;128路C400e数字通道;80路C200e数字通道模拟通道:一块AV8,含四路24bit音频DAC/ADC模块,四路14bit视频DAC/ADC模块一块WGD,500MspsAW...
上海杨浦区
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主要技术指标:粒径范围:30-3000nm质量范围:1-800Da质谱分辨率:500m/m总吸入流量:0.1±0.005L/min解析离子化激光:0.5mJ/pulseat266nm 功能/应用范围:3800-ATO...
上海杨浦区
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主要技术指标:频率范围:0.01~100Hz(25个固定频率);控温范围:-170C~600C,加热速率:0.1~20C/min,冷却速率:0.1~10C/min。 功能/应用范围:研究聚合物的玻璃化转变和次...
上海杨浦区
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主要技术指标:流量范围:0.2~10.0ml/min;柱温范围:低于环境温度10~80C;波长范围:190~950nm(波长精度1nm);折光指数:1.00~1.75RIU;相对分子量:200~3*106 ...
上海杨浦区
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主要技术指标:频率范围:10-5~100rad/sec;应变范围:0.05mrad~0.5rad;扭矩范围:0.02~2000gcm;法向力范围:2~2000g;空气炉温度范围:室温~550℃;浴槽温度范围:-8°C~80&...
上海杨浦区
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主要技术指标:变温范围:-170~725摄氏度;温度精度:0.8摄氏度;加热或冷却速率:0.01~550摄氏度/min。 功能/应用范围:研究聚合物的玻璃化转变;研究聚合物的熔融...
上海杨浦区