主要技术指标:极限真空:成膜室 1.210-6 Pa (load lock)准备室 6.710-4 Pa样品尺寸:4寸(1片/次)可通3路气体:Ar、N2、O2(50 sccm)。可做普通溅射、共溅射和反应溅射,可对样品进行预溅射清洗;衬底温度: 800 oC厚度均匀性:优于±3%靶材尺寸:2寸(磁性:2 mm厚;非磁性:5 mm厚)
功能/应用范围:该设备是制备超薄金属氧化物缓冲层、阻变薄膜、铁电薄膜的关键设备.
技术特色:-
主要测试和研究领域:电子/信息技术
收费标准:其它收费方式
仪器负责人:林殷茵,陈洁 电话:65642198
电子邮件:zhoupengfudan@gmail.com