主要技术指标:1、Loadlock预抽真空;2、本底真空:2*10e-8 Torr;3、基板加热,0-400度;4、基板旋转速度可调,1-20 rpm;5、三路气体,可反应溅射;6、五个2英寸溅射枪,和一个3英寸溅射枪;7、三个直流电源和一个射频电源,可制备多层膜和合金薄膜。
功能/应用范围:制备金属和非晶属薄膜,及多层膜。
主要测试和研究领域:电子/信息技术
收费标准:按样品、小时数收费
仪器负责人:马斌 电话:65642059
电子邮件:magnmb@fudan.edu.cn
通讯地址:邯郸路220号复旦大学光科系
邮政编码:200433