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主要技术指标:1、气流模式70%循环30%外排2、下降气流流速0.35m/s3、流入气流流速0.53m/s4、人员保护通过严格的KI-DISCUS法人员保护测试5、产品保护5-8×108CFU/ml连续3次...
上海徐汇区
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主要技术指标:获取速度能力:100,000细胞/秒分选速度能力:>70,000细胞/秒分选纯度:>99%(任何速度下)分选通路4路,可0.2–50ml离心管接收克隆分选6–1538微孔板,玻...
上海徐汇区
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主要技术指标:1.脉宽小于100fs,而峰值能量不小于450kW(在800nm)。2.波长的可调谐范围要尽可能的宽,在690-1040nm之间。3.功率大于2.5W 功能/应用范围:双光子激光成...
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主要技术指标:真空度达1X10-6乇,衬底温度可达100度直流溅射电源功率1000瓦 功能/应用范围:有2个DC溅射靶,可以在真空状态下溅射生成一类材料薄膜或多层不同薄膜,...
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主要技术指标:离子束:30kv分辨率7nm,加速电压2-30kv。电子束:钨灯丝电子枪 功能/应用范围:材料微细加工及样品制备。 主要测试和研究领域:材料/珠宝首饰电子/信息...
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主要技术指标:真空度<1e-6mBar,薄膜淀积速率1~10nm/min 功能/应用范围:离子束溅射,可用于金属薄膜淀积和样品物理刻蚀 主要测试和研究领域...
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主要技术指标:背景真空:3*10-10mbar(原指标);5*10-11mbar(目前可达指标)。配备LEED/Auger,RHEED 功能/应用范围:磁性超薄膜生长和性能测试 主要测...
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主要技术指标:振荡级(Tsunami):波长720-850nm,脉宽100fs,重复频率82MHz,功率达750mW。再生放大(Spitfire):1kHz/0.7W 功能/应用范围:磁性材料动力学研究...
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主要技术指标:1)Chambersize:600*750*620mm2)Ultimatepressure:8.0*10-7mbar3)3*4"Magnetrons(2*DC&1*rf)4)Co-sputteringprocess5)targetdiameter:100mm...
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主要技术指标:重复频率1KHz,单脉冲能量600微焦耳,脉冲宽度50fs 功能/应用范围:超快光谱学、非线性光学 主要测试和研究领域:电子/信息技术 收费标准:其它收...
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主要技术指标:样品尺寸为4寸硅片溅射室极限真空优于1.210-6Pa,进样室(loadlock)真空优于6.710-4Pa淀积薄膜厚度均匀性优于3%衬底可加热,温度最高可达800oC 功能/应用范...
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主要技术指标:极限真空:成膜室1.210-6Pa(loadlock)准备室6.710-4Pa样品尺寸:4寸(1片/次)可通3路气体:Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通溅射、共溅射和反应溅射,可对样...
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主要技术指标:X射线发生器最大管压:60kV,最大管流:60mA,陶瓷X光管最大功率:2.2kW(Cu靶),最大管压:60kV,最大管流:55mA 功能/应用范围:材料结构相关多方面的...
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主要技术指标:温度范围:-90C~550C;准确度:±0.1C;精确度:±0.01C;升温速率:0.01~550C/min;最大程序降温速率:高温降至170C速率为100C/min,低温降至-80C速率为300C/min;量热灵敏度0...
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主要技术指标:SHG:350-500nmTHG:240-320nm。相对于Mira900-D的转换效率SHG>15%(700-900nm);>10(900-1000nm);THG4(700-900nm);2(900-1000nm). 功能/应用范围:针对飞秒型(M...
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主要技术指标:电子枪功率3kW,本底真空10E-9Torr,6寸旋转样品托(可液氮冷却),坩埚5*2.24cc 功能/应用范围:蒸镀各种金属薄膜 主要测试和研究领域:电子/信息技...
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主要技术指标:波长范围:345-2500nm;脉冲宽度:80-250fs;重复频率:80MHZ;平均功率:690–1040nm范围内>2.5W 功能/应用范围:线性和非线性光谱测试,超快动力学研究。...
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