主要技术指标:1)Chamber size: 600*750*620mm 2)Ultimate pressure: 8.0*10-7 mbar 3)3*4" Magnetrons(2*DC & 1*rf) 4)Co-sputtering process 5)target diameter: 100mm
功能/应用范围:可用于金属、半导体、氧化物等材料的薄膜制备
主要测试和研究领域:材料/珠宝首饰仪器/仪表能源/核技术
收费标准:其它收费方式
仪器负责人:李晶
电话:65643439
电子邮件:lijing@fudan.edu.cn
传真:65643422
其他联系方式:65643422