主要技术指标:真空度<1e-6mBar,薄膜淀积速率1~10nm/min
功能/应用范围:离子束溅射,可用于金属薄膜淀积和样品物理刻蚀
主要测试和研究领域:电子/信息技术
收费标准:其它收费方式
仪器负责人:茹国平,陈洁
电话:65643561
电子邮件:gpru@fudan.edu.cn
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