主要技术指标:真空度达1X10-6乇,衬底温度可达100度直流溅射电源功率1000瓦
功能/应用范围:有2个DC溅射靶,可以在真空状态下溅射生成一类材料薄膜或多层不同薄膜,也可以两种不同的材料共溅射,溅射时衬底可加热,可自动操作,使用方便,对于研究材料和器件有很大作用。
主要测试和研究领域:材料/珠宝首饰电子/信息技术其他
收费标准:按样品、小时数收费
仪器负责人:戎瑞芬 电话:65642390
电子邮件:rfrong@fudan.edu.cn
传真:65103056