2024年11月05日 星期二
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  • 磁控溅射系统

      主要技术指标:真空度达1X10-6乇,衬底温度可达100度直流溅射电源功率1000瓦  功能/应用范围:有2个DC溅射靶,可以在真空状态下溅射生成一类材料薄膜或多层不同薄膜,...

    复旦大学材料科学系

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