磁控溅射系统

　　主要技术指标：真空度达1X10-6乇，衬底温度可达100度直流溅射电源功率1000瓦　　功能/应用范围：有2个DC溅射靶，可以在真空状态下溅射生成一类材料薄膜或多层不同薄膜，...

复旦大学材料科学系

双束聚焦离子束系统

　　主要技术指标：离子束：30kv分辨率7nm，加速电压2-30kv。电子束：钨灯丝电子枪　　功能/应用范围：材料微细加工及样品制备。　　主要测试和研究领域：材料/珠宝首饰电子/信息...

复旦大学材料科学系

磁控溅射装置

　　主要技术指标：真空度<1e-6mBar，薄膜淀积速率1~10nm/min 　　功能/应用范围：离子束溅射，可用于金属薄膜淀积和样品物理刻蚀 　　主要测试和研究领域...

复旦大学信息科学与工程学院

飞秒激光器系统

　　主要技术指标：重复频率1KHz,单脉冲能量600微焦耳，脉冲宽度50fs　　功能/应用范围：超快光谱学、非线性光学　　主要测试和研究领域：电子/信息技术　　收费标准：其它收...

复旦大学信息科学与工程学院

纳米器件溅射仪

主要技术指标：样品尺寸为4寸硅片溅射室极限真空优于1.210-6Pa，进样室(loadlock)真空优于6.710-4Pa淀积薄膜厚度均匀性优于3%衬底可加热，温度最高可达800oC 功能/应用范...

复旦大学信息科学与工程学院

存储薄膜溅射仪

　　主要技术指标：极限真空：成膜室1.210-6Pa(loadlock)准备室6.710-4Pa样品尺寸：4寸(1片/次)可通3路气体：Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通溅射、共溅射和反应溅射，可对样...

复旦大学信息科学与工程学院

电子束蒸发系统

主要技术指标：电子枪功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋转样品托(可液氮冷却)，坩埚5*2.24cc　　功能/应用范围：蒸镀各种金属薄膜　　主要测试和研究领域：电子/信息技...

复旦大学分析测试中心