纳米器件溅射仪

主要技术指标：样品尺寸为4寸硅片溅射室极限真空优于1.210-6Pa，进样室(loadlock)真空优于6.710-4Pa淀积薄膜厚度均匀性优于3%衬底可加热，温度最高可达800oC 功能/应用范...

复旦大学信息科学与工程学院

存储薄膜溅射仪

　　主要技术指标：极限真空：成膜室1.210-6Pa(loadlock)准备室6.710-4Pa样品尺寸：4寸(1片/次)可通3路气体：Ar、N2、O2(50sccm)。可做普通溅射、共溅射和反应溅射，可对样...

复旦大学信息科学与工程学院

磁控溅射真空镀膜机

功能用途： 应用于塑料制品、陶瓷、树脂、水晶玻璃制品等、工艺品、塑料手机壳、电子产品、建材等行业。 磁控溅射镀膜机主要是使用直流(或中频)磁控溅射，可...

河北科技大学

电子束蒸发系统

主要技术指标：电子枪功率3kW，本底真空10E-9Torr，6寸旋转样品托(可液氮冷却)，坩埚5*2.24cc　　功能/应用范围：蒸镀各种金属薄膜　　主要测试和研究领域：电子/信息技...

复旦大学分析测试中心