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贵金属及其合金密度测试方法GB/T1423-1996,贵金属及其合金密度测试方法GB/T1423-1996
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国徽GB/T15093-2008,国徽GB15093-2008
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铝合金加工产品的剥落腐蚀试验方法GB/T22639-2008
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金属和合金的腐蚀腐蚀疲劳试验第1部分：循环失效试验GB/T20120.1-2006
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金属和合金的腐蚀应力腐蚀试验第4部分：单轴加载拉伸试样的制备和应用GB/T15970.4-2000
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铜氢脆试验ENISO2626
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外科植入物用不锈钢GB/T4234-2003,金属显微组织检验方法GB/T 13298－1991
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外科植入物用不锈钢GB4234-2003
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金属和合金的腐蚀 不锈钢晶间腐蚀试验方法GB/T4334-2008
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刚玉磨料中α-Al2O3相X射线定量测定方法GB/T14321-2008
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硅片弯曲度测试方法GB/T6619-2009
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硅单晶电阻率测定方法GB/T1551-2009,半导体硅片电阻率及硅薄膜层电阻测定非接触涡流法GB/T6616-2009,硅片径向电阻率变化测量方法GB/T11073-2007,硅晶体中间隙氧含量红外吸收测量方法GB/T1557...
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用红外吸收法测量硅中间隙氧含量的标准方法SEMIMF1188-1107,硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法GB/T14144-2009,硅片中间隙氧含量径向变化的标准测试方法SEMIMF951-0305,硅中代（替）位碳...
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非本征半导体中少数载流子扩散长度的稳态表面光电压测试方法YS/T679-2008,用稳态表面光电压法测量硅中少数载流子扩散长度的标准方法SEMIMF391-0708,硅片载流子复合寿命的无接触微波反射光电导...
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硅抛光片表面质量目测检验方法GB/T6624-2009,硅抛光片表面颗粒测试方法GB/T19921-2005
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硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法GB/T24578-2009,代替使用全反射X光荧光光谱测量硅片沾污的测试方法SEMIMF1526-1103
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硅抛光片氧化诱生缺陷的检测方法GB/T4058-2009
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硅片直径测量方法GB/T14140-2009
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国家有色金属及电子材料分析测试中心引进了美国ThermoFisher公司最新型号的ElementGD辉光放电质谱仪(GDMS)，适用于金属中ppb级及其以上含量的杂质分析，可以检测5N、6N高纯铝、铜、锌、...
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国家有色金属及电子材料分析测试中心从20世纪五十年代起开展稀土分析方法研究，是国内稀土检测的权威机构，同时是国家稀土标准分析方法的主要起草单位。中心面向社会提供稀土检测服务，可...
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