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- 全自动离子溅射仪是一种用于在扫描电镜样品制备、电极材料研究等领域中，通过磁控方式实现高真空环境下的精确镀膜的设备。离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择，以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。在结构设计及人机界面方面更加注重人性，简单智能。
全自动离子溅射仪全自动操作，简单易用。该仪器非常适合用于钨灯丝、台式扫描电镜等应用。它具有以下功能：
(1) 溅射电流自动调整：在设定了溅射电流后，系统会自动调节真空度，以达到设定的溅射电流。调整时间小于5秒，波动范围小于±5%。用户无需按下“实验”键来调整溅射电流，也无需操作“进气阀”。
(2) 溅射时间自动记忆：对于同类样品，只需进行一次设定即可。
(3) 参数改变自动调整：在溅射过程中，用户可以随时调整溅射电流和溅射时长。系统会自动计算叠加，无需终止溅射过程。
(4) 工作完成自动放气：当溅射过程完成后，系统会自动放气，方便用户取出样品。
(5) 样品台高度调节1秒完成：用户可以通过简单的操作快速调节样品台的高度，节省时间和精力。
(6) 溅射过程可以利用曲线显示，清晰直观：用户可以通过曲线图来观察溅射过程的变化，更加直观地了解实验进展情况。
全自动离子溅射仪(射频磁控溅射镀膜仪)主要应用于配套扫描电镜的样品制备工作，同时可以满足不同用户对样品涂层的制备要求。拥有优秀的溅射系统，可以更换不同的金属靶材（金，铂，银，铱，铬，铜等），实现高要求的细粒涂层。GVC系列为您提供优质的样品制备，轻松助您取得更好地材料研究样品， 获得高质量的显微镜观测效果。
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