检测认证人脉交流通讯录
- WS-1000MLaurell-WS半导体湿法刻蚀系列，全白色聚丙烯构造，可内置任何Laurell公司的旋涂机及显影机，排放简便的入氮口和DI喷头，如果需要单工的系统，可选择WS-1000湿法刻蚀设备，WS-1000系列旋转处理湿法设备可以被配置成测试模块构造，安装简便，易于拆卸，更便于操作者控制。
一、半导体湿法刻蚀设备功能：
●涂敷Coating
●刻蚀Etching
●显影Developing-Aqueous/Solvent
●清洗Cleaning-Aqueous/Solvent
●可选配,Sulfuric硫化物/Peroxide，溶液处理(insitumixing)
●可选配,HBr溶液处理
●带温控的显影功能
●冲洗甩干
二、半导体湿法刻蚀设备特点：
●全PP材质构造
●可集成Laurell匀胶旋涂系统
●有排孔的湿站操作台(易清洁)
●特殊设计的湿站压力系统Wetplenum
●带流量计的排液管道
●各类组件的隔离设计（散热原件，泵浦和压力容器等）
三、半导体湿法刻蚀设备材料选择：
可以根据应用选择更高级的材料；
●WS-1000-CP5符合SEMIS93标准应用在消防安全和洁净空间等领域。CP5符合UL94V-O火灾分类标准。它具有优良的平衡的物理性能，耐化学药品性和耐火性。
●WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合严格的FMRC4910测试标准，满足多方面条件下的难燃性，自熄特点和彻底燃烧。这种先进的材料也达到或超过产生低烟和小毒副产品的检测标准。
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