纳米压印光刻技术在晶体行业、光学行业的发展领域及其广阔：

1.晶圆级光学加工：2017年发布的结构光人脸识别技术第一次将微纳光学元器件引入了消费类电子领域，晶圆级光学器件加工的概念也逐渐映入人们的眼帘。

2.2019年高端智能手机：3D传感iTOF模组中的匀光片再次引入了纳米压印作为量产手段。

3.2020年AR衍射光波导光栅：加工将纳米压印技术的应用推向面积更大的12英寸，纳米压印终于完成了从科研到大规模量产的华丽转身。

4.纳米压印原始模具：加工方式有电子束直写、激光直写、光刻、刻蚀、电镀、机加工等。如此来看，模具的洁净度必须得到有效的保障。因不管是被使用还是自身的制作都是高要求。

5.威固特VGT-1507FT光学级超声波清洗设备用途：清洗纳米模具、光学器件、晶圆表面粘附的灰尘及污染物；做到清洗后表面不得有油污及其他杂物，达到的清洗效率可以每天1班，每班12H，清洗每篮节拍2-4分钟可调（以实际干燥时间为准）。

深圳威固特VGT-1507FT光学级超声波清洗机（整机共为15个功能槽）：

原理：清洗过程中工件通过超声波高频产生的“气化现象”的冲击和系统自身不停地作上下运动，增加了液体的摩擦，从而使工件表面的污垢能够迅速脱落，实现其高清洁度的目的。

设备配置：循环过滤系统、浸泡系统、自动恒温系统、溢流系统、抛动系统、超声波清洗系统、慢拉脱水系统、热风烘干系统等。其中清洗部分与慢拉及热风干燥部份分别独立电器控制，设备采用环保型有机溶剂洗涤、水溶剂洗涤、纯水漂洗、慢拉脱水热风烘干，为自动智能式清洗机。

整机分部的结构配置系统：

自动上下料装置：

• 上料系统可放置2-4个清洗篮工位；下料系统可放置1-2个清洗篮工位。
• 与整机呈“一”或“T”字摆放，可视生产实际情况稳定。
• 清洗篮放置架有防滑落装置。
• 上、下料结构采用通用清洗篮，能够实现多种零件的通用上料。
• 上下料节拍通过感应开关与PLC相连，控制上下料节拍。

为清洗中产生的油污及使用的清洁溶液设置的结构：

1.每槽设四面溢流口，溢水槽宽35mm，各槽皆为独立循环槽，由循环泵将洗剂由储液箱抽出经过滤后再运回清洗槽，即字母槽循环。

2.设置独立循环过滤系统。

3.各槽底部设排液阀且互相串联至总排管。

4.槽内设温度感应器，温控范围：RT-100℃数显可调。

5.槽外设置抛动。

6.由隔板分成两腔，分油后的清洁溶液经循环泵重新抽入清洗槽，实现自我循环，提高溶液的利用率，而分离后的油排放到总排管。

7.设市水进口，可分别接至各洗槽及储液箱。

8.配冷却水管，由清洗槽内温度感应器通过电磁阀控制加水。

9.配不锈钢加热管，功率4KW。

10.设下限液位开关，水位低时自动声光报警，报警器串联。

11.储液槽底部设排液阀，与清洗槽串联同时排入总排管。

在超声波清洗机中发生器起到的主力作用：

• 配置第四代超声波发生器，从根本上保证超声波的有效转换率，保证超声波效果并保证超声波发生器质量的稳定性。
• 超声波发生器内设单片机，内附特有的定时系统，可根据生产需要任意调整清洗时间并形成一对一的设置，定时更具有灵活性，保证清洗的一致性。
• 超声波强度光电信号显示。

慢拉脱水槽、热风烘干槽、工件提升横移机构、抛动机构具备的功能优势：

• 槽面设齿状溢流结构，纯水由纯水预热箱进入。槽外贴保温棉厚10mm。
• 槽体设备“OMRON”数显温控系统，检测槽内工作温度，温控范围：常温～120℃。
• 槽体上部设抽风小孔，将溢出的水蒸汽抽走，放置水气再次附着于提出的产品上。
• 原理：高精度表面清洗除前面需要有合理的清洗工艺和配置外，更需要良好的脱水效果。工件表面如果有任何垢点或积水点，都将导致制作中的失败。高纯水高温慢拉脱水是产品高精度清洗必不可少的工序，有效的形成均匀的热纯水膜，迅速散失表面水份，实现表面高清洁度的目的，为后续干燥奠定有利基础。
• 热风烘干槽：每个烘干槽配置一套气缸，气缸带动产品一起运动，形成密封盖。
• 循环净化热风，经高效过滤后，对产品进行干燥。
• FFU压风系统：在烘干槽正上方的机架顶部设置一个FFU层流送风单元。由上往下吹风形成负压风，致使工件加热后附着物不易粘附。
• 工件提升横移：由电机带动链条传送实现工件的提升下降运动，电机采用“松下”伺服马达（速度变频可调），功率1/2HP。
• 抛动电机通过偏心轮带动线性滑块上下运动，从根本上保证抛动的连续性，减少抛动的摩擦阻力，杜绝因工件过重而损坏抛动系统，从而实现抛动架带动洗篮在清洗槽内作上下运动。运行稳定性好，噪声小。有利于表面污垢迅速脱落，提高清洗效果。