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- 多弧离子镀膜是一种在真空中将冷阴极自持弧光放电用于蒸发源的镀膜技术。具有膜层密度高、附着力强、沉积速度快以及能使基体材料 (金属) 表面合金化等特点。 弧源特点—— 一根柱状靶，弧斑沿着靶长方向作有规律的上下往复运动，并沿着靶表面旋转扫描向360度方向辐射镀膜 ，靶材刻蚀均匀利用率高、色差小、工艺稳定。 利用此技术及设备优势，制造成本低，运行稳定，操作方便，镀膜工艺重复性好，膜层均匀无液滴产生，膜层致密。广泛应用于陶瓷工艺品、大理石、地砖等镀钛金；炭钢、不锈钢、锌铝合金等基体镀仿金（ＴiN、ZrN）、黑钛。
