射线检测

利用射线（X射线、γ射线和中子射线）在介质中传播时的衰减特性，当将强度均匀的射线从被检件的一面注入其中时，

由于缺陷与被检件基体材料对射线的衰减特性不同，透过被检件后的射线强度将会不均匀，用胶片照相、

荧光屏直接观测等方法在其对面检测透过被检件后的射线强度，即可判断被检件表面或内部是否存在缺陷（异质点）。

磁粉检测

由于缺陷与基体材料的磁特性（磁阻）不同穿过基体的磁力线在缺陷处将产生弯曲并可能逸出基体表面，

形成漏磁场。若缺陷漏磁场的强度足以吸附磁性颗粒，则将在缺陷对应处形成尺寸比缺陷本身更大、

对比度也更高的磁痕，从而指示缺陷的存在。

渗透检测

利用毛细管现象和渗透液对缺陷内壁的浸润作用，使渗透液进入缺陷中，

将多余的渗透液出去后，残留缺陷内的渗透液能吸附显像剂从而形成对比度更高、

尺寸放大的缺陷显像，有利于人眼的观测。