检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：等离子刻蚀系统
- 价格型号：SPTS LPX ICP
- 仪器分类：工艺实验设备/电子工艺实验设备
- 应用领域：电子元器件
- 所属单位：复旦大学微纳电子科技创新平台
- 所在地点：上海市浦东新区张衡路825号
- 产 地：英国
- 产 商：英国SPTS公司
- 价 值：0
- 购置日期：1899-11-30
主要技术指标：1.设备为防氯基、氟基腐蚀的防腐设备，支持氯基、氟基刻蚀气体；2.极限真空度：刻蚀室≤2.0×10-4 Pa(环境湿度≤55%，烘烤除气)，进样取样室≤6.7×10-1 Pa；3.抽速：通过机械手送样片后开始抽气至8.0×10-4 Pa的时间≤20min；4.系统静态升压率：抽至高真空，停泵关机12小时后刻蚀室的真空度≤10Pa；5.刻蚀材料：Si、SiO2、Si3N4、Poly-Si、PZT、ZnO、BFO等材料；6.刻蚀速率：0.1~2？m/min；7.刻蚀不均匀性：≤±5%(φ5吋范围内)；
功能/应用范围：适用于4英寸硅片；标准ICP深硅刻蚀工艺参数: 20微米深硅刻蚀约2.5微米刻蚀窗口宽度厚度大于1微米光刻胶掩膜或大约0.5微米SiO2掩膜掩膜图形的硅暴露面积小于10%刻蚀速度：>2微米/分钟光刻胶的选择比：>50:1 SiO2的选择比：>100:1边壁角度：90±1度
主要测试和研究领域：电子/信息技术
收费标准：其它收费方式
仪器负责人：吴东平
电话：55664846
电子邮件：dongpingwu@fudan.edu.cn
