联系人:朱文清(56334387)
仪器简介:
该设备主要用于在真空条件下蒸发各种有机薄膜。
主要技术指标:
蒸发室尺寸:Φ400×620mm,极限真空:9×10-5Pa,基片旋转速度4-40转/分,连续可调。蒸发源采用电阻加热,功率为2000W。基片进出传输方式:手动直线运动。并配有膜厚监控装置,精度达到0.1A。
应用范围:
主要用于蒸发各种有机材料及金属材料,用于制备各种有机电子器件。
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