检测认证人脉交流通讯录
- 仪器名称：ICP等离子体刻蚀机（深硅）
- 价格型号：STS MPX HRM System
- 仪器分类：其它
- 应用领域：
- 所属单位：中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
- 所在地点：
- 产 地：
- 产 商：STS
- 价 值：0
- 购置日期：0000-00-00
技术指标：温度：0-80度，侧壁垂直度：89°±1°。工艺气体：He，SF6,C4F8,O2，Ar。 ICP功率：0-3000W，RF功率：0-300W
仪器用途：主要用于硅材料的高速，深度，大深宽比刻蚀。适用于六寸片及以下尺寸。刻蚀均匀性<±5%。
收费标准：450/30分钟
机组负责人：张嫔 0512-62872625 pzhang2008@sinano.ac.cn
