主要技术指标:真空< 1X10-9 torr
功能/应用范围:Silicon Molecular Beam Epitaxy System (Riber Eva-32) two-chamber system facilitated with two e-beam sources, B and Sb doping sources, two Sentinal III thickness monitors.主要功能: a.二个室:进样室、生长室。b.二个蒸发源、一个P型B掺杂源和一个n型Sb掺杂源。c.反射高能电子衍射仪(RHEED)d.由SentinelⅢ控制膜的生长应用于硅基低维材料生长
主要测试和研究领域:材料/珠宝首饰