主要技术指标:真空度10e-9mbar 8个单质蒸发源单原子层精度控制氧化物薄膜生长衬底10X10mm
功能/应用范围:小尺寸氧化物薄膜生长
技术特色:单原子层精度控制氧化物薄膜生长
主要测试和研究领域:材料/珠宝首饰
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